• 페이스북
  • 네이버블로그
  • 네이버포스트
주요뉴스
시노펙스, 국내 최초 반도체 공정용 15나노 AF필터 개발
시노펙스, 국내 최초 반도체 공정용 15나노 AF필터 개발
  • 정상혁 기자
  • 승인 2024.01.30 08:59
  • 댓글 0
이 기사를 공유합니다

반도체 케미컬용 15나노 AF필터 개발 성공

시노펙스가 국내 최초로 개발한 반도체 공정용 15나노 AF필터(불로수지소재)를 일반에 공개한다.

30일 시노펙스는 오는 31~22일까지 서울 코엑스에서 열리는 국내 최대 반도체 전시회 세미콘코리아 2024’에서 15나노 AF필터를 소개한다고 밝혔다. 이번 행사에서 시노펙스는 국내 첫 개발한 15나노 AF필터와 함께 총 8종의 반도체 산업에 사용되는 필터를 선보일 예정이다.

AF필터는 필터 케이스 및 내부 필터 전체를 PTFE 소재를 사용해 반도체 생산공정에서 사용되는 불산, 황산, 질산 같은 강산과 200도 이상의 고온에서 불순물을 제거하는 역할을 한다.

시노펙스가 개발한 반도체 케미컬용 15나노 AF필터. 사진: 시노펙스
시노펙스가 개발한 반도체 케미컬용 15나노 AF필터. 사진: 시노펙스

현재 AF필터에 사용되는 PTFE 소재는 미국 고어사에서 전 세계 시장을 과점하고 있는 상황이다. 특히, 20나노 이하급 필터는 전량 수입에 의존하고 있다는 게 시노펙스 측의 설명이다.

이에 시노펙스는 AF필터에 사용되는 PTFE 소재 국산화와 안정적인 공급망을 위해 국책 과제 연구개발(2019) ePTFE 소재 벤처기업인 프론텍 흡수합병(2020) 10나노급 파일럿 시설(2023) 등을 통해 해외 글로벌 업체 수준의 역량을 확보했으며, 국내에서 처음으로 15나노 AF필터 개발에 성공했다.

시노펙스가 개발한 AF필터는 성인 머리카락 굵기의 약 6,600분의 115나노 기공 사이즈의 첨단 기술이 적용됐다. 필터의 소재부터 외부 케이스까지 전체가 내화학성이 매우 높은 불소수지 소재로 제작됐다.

석유민 시노펙스 R&D 센터장은 최근 반도체 산업에서는 10~20나노급의 고성능 필터가 사용되며, 최첨단 10나노급 이하의 반도체 생산을 위해서는 10나노급의 필터가 필수적으로 필요하다올해 중 10나노급 AF필터도 추가로 개발할 예정이라고 말했다.

이어 현재 동탄 사업장에 반도체용 나노급 제품 전용 생산라인을 자체 개발한 설비로 세팅하고 있다면서 “2025년 이후에는 싱글 나노급 (10나노 이하급) 필터 기술 개발과 양산 적용을 동시에 진행해 현재 글로벌 필터 회사가 독점하고 있는 반도체용 케미컬 필터 시장을 대체해 나갈 계획이라고 강조했다.

한편, 시노펙스가 국산화에 성공한 PTFE 소재는 반도체 생산공정 외에도 바이오, 제약, 수소연료전지, 고청정 크린룸용 울파(ULPA) 필터, 인공혈관, 5G 통신케이블 등 다양한 산업 분야에서 사용되고 있다. 글로벌 시장 규모는 연간 약 3조원 이상으로 추정된다.


댓글삭제
삭제한 댓글은 다시 복구할 수 없습니다.
그래도 삭제하시겠습니까?
댓글 0
댓글쓰기
계정을 선택하시면 로그인·계정인증을 통해
댓글을 남기실 수 있습니다.